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深紫外激光PEEM系統(tǒng)在石墨烯表面研究方法

鉅大LARGE  |  點(diǎn)擊量:1494次  |  2018年05月30日  

  近日,大連物化所納米與界面催化研究組(502組)與北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院劉忠范-彭海琳課題組合作,利用本組新近研制的深紫外激光光電子發(fā)射顯微鏡(DUV-PEEM)和像差矯正低能電子顯微鏡(AC-LEEM)系統(tǒng)對(duì)調(diào)制攙雜制備的具有“馬賽克”結(jié)構(gòu)石墨烯進(jìn)行表面形貌和表面功函數(shù)研究,證實(shí)了利用化學(xué)氣相沉積法成功地實(shí)現(xiàn)了本征石墨烯區(qū)域和氮攙雜石墨烯區(qū)域的可控生長(zhǎng)。

  石墨烯在光電技術(shù)等領(lǐng)域有潛在的重要應(yīng)用,而構(gòu)建P-N結(jié)是實(shí)現(xiàn)許多光電器件應(yīng)用的核心,因此構(gòu)建石墨烯的光電功能器件必須在保證石墨烯質(zhì)量的前提下實(shí)現(xiàn)高可控性和均一性的穩(wěn)定摻雜。北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院劉忠范-彭海琳課題組根據(jù)材料生長(zhǎng)中調(diào)制摻雜的原理,提出了具有高遷移率、摻雜區(qū)域可控的石墨烯的調(diào)制摻雜生長(zhǎng)方法,實(shí)現(xiàn)了“馬賽克”結(jié)構(gòu)的石墨烯P-N結(jié)材料的規(guī)模制備,并將其用于高性能光電轉(zhuǎn)換器件。

  由于對(duì)石墨烯進(jìn)行氮攙雜能夠有效降低表面功函數(shù),其與本征石墨烯區(qū)域在PEEM成像中具有較大的襯度差異,因此PEEM可以作為一個(gè)有效的表面研究方法表征具有此類(lèi)結(jié)構(gòu)的石墨烯表面。

  大連物化所納米與界面催化研究組前期已經(jīng)利用深紫外激光PEEM系統(tǒng)在石墨烯的表面化學(xué)(AngewChemIntEd,2012,51,4856;DOI:10.1002/anie.201200413)和石墨烯表面結(jié)構(gòu)(NatureCommun,2012,3:699;doi:10.1038/ncomms1702)等研究方面取得系列進(jìn)展。這次與北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院劉忠范-彭海琳課題組合作并有效地開(kāi)展了石墨烯表面電子結(jié)構(gòu)的研究。這些工作表明PEEM在固體表面的物理化學(xué)研究中將能夠發(fā)揮重要作用。

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